Wzmocnione plazmowo osadzanie warstw atomowych wysokiej jakości azotku galu

Wzmocnione plazmowo osadzanie warstw atomowych wysokiej jakości azotku galu

Sanjie Liu / Xinhe Zheng

114,50 €
IVA incluido
Disponible
Editorial:
KS OmniScriptum Publishing
Año de edición:
2026
ISBN:
9786630084900
114,50 €
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Niniejsza książka bada procesy i metody przygotowywania wysokiej jakości cienkich warstw azotku galu na różnych podłożach przy użyciu technologii osadzania warstw atomowych ze wspomaganiem plazmowym. Dzięki wprowadzeniu międzywarstwy azotku glinu i wstępnej obróbce plazmą azotową na podłożach krzemowych, zawartość zanieczyszczeń tlenem w warstwach została znacznie zmniejszona, a jakość interfejsu uległa poprawie. Na podłożach szafirowych, wysokiej jakości monokrystaliczny azotek galu został epitaksjalnie wyhodowany w niskich temperaturach poprzez połączenie wypalania i wstępnej obróbki plazmą azotową. Polikrystaliczne warstwy azotku galu z ostrymi interfejsami zostały bezpośrednio osadzone na podłożach kwarcowych, a ich zastosowanie w perowskitowych ogniwach słonecznych doprowadziło do znacznego wzrostu wydajności konwersji. Badania te stanowią ważną podstawę eksperymentalną i wsparcie metodologiczne dla kontrolowanego przygotowania niskotemperaturowych, wysokiej jakości cienkich warstw azotku galu i ich zastosowań w urządzeniach optoelektronicznych.

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