Характеристики пористого слоя Si, сформированного в результате усиленного серебром химического травления p-Si в водном растворе HF/HNO3, зависят от концентрации ионов Ag в ванне осаждения, концентрации травителя (HF) и окислителя (HNO3), а также времени травления Si-подложки. Результаты РЭМ подтвердили, что осаждение ионов серебра из 1,0 × 10-3 М раствора AgNO3 на p-Si перед химическим травлением в HF/HNO3 привело к образованию равномерного PSL по сравнению с другими концентрациями нитрата серебра. Данные импеданса показали, что при увеличении концентрации HF и азотной кислоты происходит растворение Si. Изготовление PSL с круглыми отверстиями правильной формы и малого диаметра происходило быстрее при Ag-модифицированном химическом травлении p-Si, чем при традиционном травлении пятен в том же травильном растворе, при котором получались поры значительной ширины. Отсутствие пика серебра в EDX-измерениях для PSL, полученных в результате Ag-модифицированного химического травления, свидетельствует о том, что осажденный Ag полностью растворился в растворе после травления. Результаты СЭМ и АСМ показали, что диаметр нанопор и шероховатость поверхности увеличивались по мере увеличения продолжительности травления.